四日市工場の第6製造棟および開発センターの起工について

  • 2017年2月9日
  • 株式会社東芝

当社は、本日、フラッシュメモリを製造する四日市工場の第6製造棟と開発センターの起工式を行いました。

第6製造棟は、3次元フラッシュメモリ「BiCS FLASH™」注の生産拡大のために建設するものであり、3次元フラッシュメモリ固有の製造工程を担う予定です。四日市工場第5製造棟と同様に2期に分けて建設することとし、2018年夏に第1期分が竣工する予定です。開発センターは、第6製造棟に隣接して建設され、3次元フラッシュメモリや新規メモリの開発を行うための施設です。開発センターの完成は2017年末の予定です。

第6製造棟における具体的な設備導入・生産開始時期、生産能力、生産計画等については、市場動向を踏まえ、今後決定していきます。

当社は、市場動向に合わせた3次元フラッシュメモリの生産拡大など、メモリ事業の競争力強化に向けた取り組みを積極的に展開し、今後も市場におけるリーダシップを発揮していきます。

  1. 従来のシリコン平面上にフラッシュメモリ素子を並べたNAND構造ではなく、シリコン平面から垂直方向にフラッシュメモリ素子を積み上げ、素子密度を大幅に向上した構造。
  • BiCS FLASH™は、株式会社東芝の商標です。

第6製造棟の完成イメージ図

開発センターの完成イメージ図