磨きぬいた技術で、メモリシステムに変革を

専門領域：メモリシステム

インタビュー動画：磨きぬいた技術で、メモリシステムに変革を

AIや機械学習を筆頭にどんどん扱うデータ量が増えています。
10年後を考えると、これから毎年１年間に生み出されるデータは年率25％以上伸び続け、特に、 5G通信の伸展やAIの進化に伴いリアルタイムで処理されるデータは年率35％以上伸びていくと予想されています。こうした膨大なデータの有効な活用には、記憶・処理・検索・追跡・消去などさまざまなことが必要となっていきます。
コンピューティングとメモリやストレージが離れているとデータのやり取りに時間やエネルギーがかかり、非常に非効率になります。そのため、データ処理をメモリの近くあるいはメモリの中で行うニアメモリやインメモリといわれるコンピューティングが進展することは確実です。そこでの勝ち方も各様、キオクシアのメモリは必ずそこで使用されます。
それを実現するメモリシステムの変革。これを提供することがキオクシアの未来への貢献になると思います。

大脇 幸人（おおわき ゆきひと）　メモリ技術研究所　フェロー

• 1983年　東京大学大学院工学系研究科物理工学専攻　修了（修士）
• 1983年　株式会社東芝入社　総合研究所に配属
• 1991年～1993年　ケンブリッジ大学留学
• 2001年　同社　先端メモリ開発センター　先端メモリ開発第一担当グループ長
• 2002年　同社　SoC研究開発センター　新規メモリ設計技術開発部長
• 2005年　同社　同　モバイル＆コミュニケーションSoC技術開発部長
• 2006年　同社　システムLSI第一事業部　システムLSI設計技術部長
• 2007年　同社　システムLSI事業部　マルチメディアSoC設計技術部長
• 2011年　同社　半導体研究開発センター　メモリシステム開発部長
• 2014年　同社　半導体研究開発センター　技監
• 2017年　東芝メモリ株式会社（現キオクシア株式会社）　システム研究開発センター長
• 2019年　同社　メモリ技術研究所　技監
• 2020年　同社　メモリ技術研究所　フェロー

• 1983年～1998年　DRAM、システムLSIの半導体回路設計及びデバイスの研究開発
• 1999年～2002年　強誘電体メモリの開発を牽引
• 2005年～2011年　マルチメディア向けシステムLSIの開発を牽引

• 1998年　関東地方発明表彰　発明奨励賞

• IEEE Journal of Solid-State Circuits JSSC Associate editor (2001-2006)
• ISSCC Technical Program Committee (1997-2007)
• Japan IEEE SSCS Secretary (2005-2008)

専門領域：デバイス・プロセス
企業で基礎研究を行う面白さ、半導体デバイス、プロセスを通じた社会への貢献を語ります。

専門領域：TCADシミュレーション
半導体分野におけるデジタルツインの創造が、社会に新たな価値や面白さを提供します。

専門領域：フラッシュメモリ開発
新規技術導入で世界に挑み続ける開発リーダーが、技術の粋を結集して生み出したメモリについて語ります。